Силицирование в среде тетрахлорида кремния. Для газового силицирования используются тетрахлорид кремния (SiCl4) и моносилан (SiH4). Для силицирования в среде тетрахлорида кремния можно применять печи с газовым и...

В качестве насыщающей среды при этом методе силицирования можно использовать порошки различных кремнийсодержащих веществ: металлизированного (кристаллического) кремния, карбида кремния, ферросилиция...

В технологическом оформлении процесс жидкостного силицирования чрезвычайно прост. Насыщение может проводиться в печах любой конструкции, обладающих размерами рабочего пространства, достаточными для установки тигля.

Электролизное силицирование осуществляется на специальных установках, основными составными частями которых являются: печь-ванна, системы питания постоянным и переменным током и система автоматического контроля и...

Первые опыты по насыщению сталей кремнием в жидких средах без электролиза были проведены еще в 1949 г. Силицирование проводилось в среде эвтектического расплава NaCl+BaCl2 с добавкой 10—20% насыщающего вещества...

Назад 1 2 3 4 5 6 Вперед