Данный метод химического осаждения из паровой фазы основан на использовании растворенного в жидкости, легко летучего прекурсора с температурой разложения, обеспечивающей осаждение по механизму адсорбции пара на поверхность подложки с последующими химическими реакциями образования материала покрытия. При использовании металлоорганического прекурсора процесс классифицируется как аэрозольно-стимулированный металлоорганический метод.
Данный процесс может быть осуществлен в условиях открытой атмосферы или при пониженном давлении в реакторе. Преимущества метода:
— высокая скорость осаждения;
— однородность толщины;
— полное покрытие поверхности;
— точный контроль состава;
— осаждение на объемные (трехмерные) изделия, подложки сложной формы, провода.
В некоторых случаях для получения требуемой структуры необходима последующая термообработка.
Пленки. Этим методом получают тонкие пленки InSe, ВаТiO3, ТiO2, Аl2О3.
Порошки. Наночастицы СdТе диаметром 3—5 нм получены при впрыскивании смеси [Сd(СН3)2, (n-С8Н17)3РТе, (n-С8Н17)3Р и (n-С8Н17)3РО] при повышенных температурах. Наночастицы использовались в дальнейшем для осаждения тонких СdTе-пленок путем образования суспензии СdТе наночастиц в подходящем органическом растворителе и последующего распыления суспензии на стеклянную подложку с покрытием SnO2.

Имя:*
E-Mail:
Комментарий: